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非標方管的鍍層控制應該是怎樣的

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非標方管的鍍層控制應該是怎樣的

發(fā)布時間:2020/4/24 11:42:46人氣:45

  一種實現(xiàn)非標方管連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置

  實用新型涉及冶金連鑄機結晶器,特別涉及方坯管式結晶器(本 文稱非標方管)及組合式結晶器內壁連續(xù)差厚鍍層的電鍍裝置。

  煉鋼連鑄機用非標方管的內壁鍍層目前仍沿用等厚電鍍工藝。 由于非標方管的技術要求,其上端(即鋼水入口處)鍍層應相對減 薄,使鋼水熱量能迅速散失,而鋼水在流進非標方管入口至三分之 一處逐步形殼成錠后鍍層應相應增厚,以克服鋼錠滑動磨擦的損耗。 無疑等厚鍍層難以滿足上述要求。為此,非標方管的過鋼量很難大 幅度提高。沿用等厚鍍層的主要原因是非標方管內壁鍍層上薄下厚 的加工要求(因其四個棱角為弧度設計)一般機加工設備很難完成。

  本實用新型的目的是提供一種實現(xiàn)非標方管連續(xù)差厚鍍層的 流鍍裝置,采用鍍液在結晶器內流動時進出鍍液等量分流的辦法,使結 晶器中鍍液液位按設計要求逐漸連續(xù)下降,從而實現(xiàn)連續(xù)差厚鍍層。

  本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的:本實用新型提供一種鍍液液位 可以控制的流鍍裝置,包括流鍍系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源三個部分組成。

  按照本實用新型所述流鍍系統(tǒng)由鍍液儲糟、入口泵、進液閥、入 口流量計、下流鍍罩、非標方管、陽極、上流鍍罩、溢流口、溢流 閥、出口流量計及連通管道共同組成一個封閉的鍍液流動系統(tǒng),其特 征在于:非標方管作為電鍍糟、經(jīng)上、下流鍍罩密封固定后,下流 鍍罩經(jīng)進液口、管道與入口流量計對接,下接進液閥、入口泵。上流 鍍罩經(jīng)溢流口、溢流管與溢流閥對接、再接出口流量計、鍍液儲槽。

  按照本實用新型所述控制系統(tǒng)由入口流量計、出口流量計和分流 流量計共同組成,其特征在于:下流鍍罩的進液口與入口流量計之間 安裝一個分流閥,分流閥下接分流流量計,再經(jīng)管道接至鍍液儲糟。

  按照本實用新型所述控制系統(tǒng)、其特征在于虹吸管由陽極引出、 經(jīng)上流鍍罩穿出后接虹吸閥,該虹吸管頂端最高點的高度低于溢流 口,且虹吸管、虹吸閥與溢流管、溢流閥并聯(lián)接至出口流量計,再經(jīng) 管道接至鍍液儲糟。

  當鍍液在流鍍系統(tǒng)中運動時,由可手動、自動調節(jié)的高頻直流脈 沖電源(見專利ZL200620023685.2)對系統(tǒng)供電、完成對結晶器內 壁的電鍍過程。本實用新型有以下積極效果:由于電鍍過程中鍍液在 一個以非標方管為電鍍槽的封閉系統(tǒng)中運動,不但大幅度減少鍍液 用量、避免鍍液揮發(fā)污染,而且可以在鍍液循環(huán)中控制非標方管內鍍液液位的平衡和升降,從而實現(xiàn)封閉容器中鍍層厚度的自動控制。